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GDZT-50-200-30防爆高低溫一體機能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
-80~200度高低溫循環(huán)裝置GDZT-20-200-80能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
GDZT-50-200-80高低溫循環(huán)裝置：分三個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng)，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用。可達11L的儲液能力。
GDZT-100-200-80 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
GDZT-20-200-40 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
GDZT-50-200-40 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
GDZT-100-200-40 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
GDZT-20-200-30 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。